| 產品名稱 | 鈦靶塊 、鈦靶材 |
| 牌號/材質 |
TA1，TA2，TA3，TC4(Ti6AL4V)，GR1，GR2，GR3，GR5( Ti6AL4V) |
| 標準 |
鈦圓靶 ：技術條件：符合GB/T2695-1996，ASTMB348-97 鈦板靶 ：技術條件：符合GB/T3621-94，ASTM B265-93 |
| 規(guī)格 |
圓靶：常用規(guī)格：60/65/95/100*30/32/40/45mm板靶：(8-25)mm * (150-300) mm * (1000-2500)mm管靶： 70mm * 7mm/10mm |
| 表面 |
車光，可加螺紋 |
| 特性 |
重量輕，優(yōu)異的抗腐蝕性，防腐性，強度高，耐熱性好，延展性好，無毒性，無磁性，優(yōu)良的機械強度等。 |
| 狀態(tài) |
退火態(tài)（M） 熱加工狀態(tài)（R） 冷加工狀態(tài)（Y）(退火，超生波探傷) |
| 應用 | 鈦靶材廣泛應用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)等領域。 |
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品名 |
純度 |
密度 |
鍍膜優(yōu)勢色 |
形狀 |
常規(guī)尺寸 |
應用行業(yè) |
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鈦鋁（TiAl）合金靶 |
2N8-4N |
3.6-4.2 |
玫瑰金/咖啡金 |
圓柱形 |
直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm |
裝飾/工具 |
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純鉻（Cr）靶 |
2N7-4N |
7.19 |
白色/黑色 |
圓柱形 |
直徑60/65/95/100*30/32/40/45mm |
裝飾/工具 |
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純鈦（Ti）靶 |
2N8-4N |
4.51 |
金黃色/槍黑色/ 藍色/玫瑰紅 |
圓柱形 |
直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm |
裝飾/工具 |
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純鋯（Zr）靶 |
2N5-4N |
6.5 |
金色 |
圓柱形 |
直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm |
裝飾/工具 |
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純鋁（Al）靶 |
4N-5N |
2.7 |
銀色 |
圓柱形 |
直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm |
裝飾/工具 |
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純鎳（Ni）靶 |
3N-4N |
8.9 |
金屬本色 |
圓柱形 |
直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm |
裝飾/工具 |
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鎳釩（Nir）靶 |
3N |
8.57 |
藍綠色 |
圓柱形 |
直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm |
裝飾/工具 |
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純鈮(Nb）靶 |
3N |
8.57 |
白色 |
圓柱形 |
直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm |
裝飾/工具 |
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純鉭（Ta）靶 |
3N5 |
16.4 |
黑色/紫色 |
圓柱形 |
直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm |
裝飾/工具 |
鈦靶概述及材質要求
1、純度
純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
2、雜質含量
靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如，半導體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
3、密度
為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。
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